1.浸漬提拉涂敷機勻膠機 型號:DP-C128

產(chǎn)品簡介：
浸漬提拉涂敷法：（簡述）
            把需要涂敷的基片浸入溶液中，通過預設置的速度，在定的溫度和空氣環(huán)境下將基片慢慢提拉起來，
      在基片的表面形成薄膜。膜層厚度由提拉速度，固體含量和液體粘度決定。用溶膠凝膠的方式涂敷成膜，
      空氣會使溶劑揮發(fā)，而溶劑揮發(fā)，又會步促使溶膠脫穩(wěn)，使其入凝膠過程，由于溶劑膠中的微小粒子（納米級），
      后會形成透明的薄膜。提拉涂敷法適用于基片大，異形幾何體，兩面及多面涂敷成膜的情況。
            浸漬提拉涂敷機勻膠機 主要用于材料浸入液體，膠體中經(jīng)提拉在表面形成薄膜，適用于硅片，晶片，玻璃，陶瓷，木材，
           金屬等所有固體材料表面涂覆藝?？稍诳蒲校逃?，生產(chǎn)中應用。
"dip coater"行業(yè)稱：提拉機  提拉涂覆機
主要特點：
           * 計算機控制運行，運行參數(shù)記憶，鍵復位，保障試驗過程可重復。
              實時狀態(tài)（距離mm,時間h:min:sec）數(shù)據(jù)顯示，方便觀察實驗現(xiàn)象。到位自動停機，聲音報告。
           * 度直線導軌控制運行軌跡，保障運行軌跡的確直線性。
           *  2個作位：可安放2個燒杯，內(nèi)盛不同粘度的膠體。
              每個作位可夾持1個以上的“玻片"。作效率更。
           * 彈簧夾持“玻片"，結構更簡單，操作更方便。
術參數(shù)：
       單相交流電源：220V.50Hz
       率：30W
       快直線速度：300mm/min
       慢直線速度：5.9X10-7 m/sec （1毫米/0.47小時）
       有效提拉度：128mm
可設定  時間：1秒----9小時59分59秒
外廓尺寸： 320mm x 260mm x 330mm , 

2.真空冷鑲嵌機 型號:DP-CB

產(chǎn)品型號：DP-CB
 
產(chǎn)品簡介：用于多孔試樣鑲嵌，微型試樣鑲嵌：
          尤其是線路板、帶有微細孔的各種材料的鑲嵌。
          在業(yè)中，還可與染色劑配合，用于各種缺陷的檢查。
          它的原理是把空氣從孔隙中吸出，再利用大氣壓的作用把鑲嵌料或染色劑壓
          微細孔。 
          還適用于將試樣粘貼到載片上制作薄片試樣
主要特點：
         *真空室較大，可同時浸漬或鑲嵌多個試樣。
         *真空室透明，方便觀察鑲嵌成型過程。
         *真空室有定厚度的有機玻璃制，不易破碎，遠比普通玻璃真空室要堅固，安。
         * 操作簡便，外置柱狀裝置對導料管夾緊，操作簡單，阻斷可靠
                配合使用次性耗材，
         *設置料杯安放架，防止料杯傾覆，防止污染桌面，更人性化。
         *內(nèi)置真空泵,采用新術:保證不回油,不污染樣品.不產(chǎn)生油霧, 不污染室內(nèi)環(huán)境.
          （普通旋片式真空泵，可能回油，真空油反流到真空室，污染標本，操作失敗。
         普通旋片式真空泵，作過程中，由于速旋轉及摩擦生熱兩種原因產(chǎn)生油霧，
          污染室內(nèi)環(huán)境。 影響身體健康。  
         鑲嵌室底由食品級有機材料制成，從而便于清潔,而且不會粘附廢浸漬液
 
術參數(shù)：真空度：-0.09MPa 
電源: 交流  220V .   
產(chǎn)品規(guī)格：350mm寬 x300mm深 x280mm

3.半導體晶片甩干機 型號:DP-T150

能：

用于半導體晶片速旋轉干燥。

機理：

速旋轉使半導體晶片充分與空氣接觸，快速干燥。

參數(shù)：

轉速可設置范圍：300-8000/分

時間可設置范圍：2*999秒

基片適用范圍：10mm-150mm.

結構：半導體晶片卡裝。

4.電腦控制旋轉涂層機/勻膠機勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 型號;DP-C108

產(chǎn)品型號：DP-C108
產(chǎn)品簡介：主要用于液體，膠體的成膜性能試驗，表面涂覆藝。
"spin coater "    行業(yè)稱：勻膠機 勻膠臺 甩膠機、旋涂儀 旋轉涂膜機 旋涂機
主要特點：
       *電腦控制，可預置并記憶轉速，控制轉盤均勻加速；
                        旋轉時間預置，到時，控制轉盤均勻減速。  
       *轉速:300– 8000轉/分. ( 100轉/步 ,調(diào)整 )
       *電腦閉環(huán)控制電機,轉速確±0.5轉/分.方便實驗效果重現(xiàn).  
       *機械三爪式裝夾。裝夾可靠，可意裝夾￠50—100mm片。
       *機械四爪式裝夾?？煽垦b夾方形，矩形片，（可選購件）
       *機械微型夾板裝夾，
           可以裝夾微小的圓形，方形，矩形，六角形，等異形薄片。（可選購件）
       * 排除了因真空吸附不牢，成飛片的可能。
       *去除了真空泵，節(jié)約了您的金錢，減少了環(huán)境噪聲。     
       *作腔可拆卸,方便清洗.
       *作腔透明, 方便觀察成膜過程。                              
       *結構設計無皮帶,無碳刷, 沒有因常時間遠行而需要更換的易損件。
         其明顯效果是:機械噪音低,滿足實驗室要求.運行平穩(wěn)。
         在此我們遵循了機械設計中，等壽命設計理論。
         保障了用戶可以放心使用。                                      
       *透明作腔密閉涂層實驗，無液體、膠狀體飛濺，作環(huán)境衛(wèi)生，安。
術參數(shù)：
        旋轉盤直徑：120mm。可意裝夾￠50—100mm片
        旋轉盤轉數(shù):8000r/min。
        可調(diào)數(shù)顯轉數(shù)：300 - 8000 轉?？稍O定時間：1 - 99分。
標準包裝：尺寸： 250mm寬 x 300mm深 x 215 mm , 重量： 9 kg
產(chǎn)品用途：將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜

5.多位真空冷鑲嵌機  金相試驗鑲嵌機 型號:DP-290

DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機
提供浸漬性能，操作快速效。適合用于多孔材料，例如裂紋失效分析試樣，多孔鑄件及復合物，電子元件，礦石，陶瓷和噴涂等試樣。 
DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機
浸漬
多孔試樣的浸漬要求試樣的孔及裂紋中沒有空氣，以方便后續(xù)材料微觀結構分析以及缺陷觀察。方法就是在真空下浸漬。
DP-290真空冷鑲嵌機確保試樣的浸漬。
DP-290真空冷鑲嵌機配備個大容積真空室和個容易操作的控制面板。浸漬材料通過次性管道輸送，快速效的分布至各個鑲樣模中，沒有潑濺污染。
DP-290真空冷鑲嵌機
足夠容納多個 / 或大型試樣的空間。
配備有個大容積真空室。D282X140mm
直徑280mm的鑲樣模對大型試樣行浸漬。
實用的鑲樣模架上可放置多達9個鑲樣模。
當使用50mm直徑模具時，可以同時安裝9個。
實用的鑲樣模架在真空室內(nèi)可以緩慢旋轉。方便澆鑄浸漬。 
DP-290多位真空冷鑲嵌機金相試驗鑲嵌機 
易于操作
輕巧入口管實現(xiàn)鑲嵌樣模的*裝填。
易讀取的真空表;
輕觸鍵,方便客戶操作。
透過透明蓋清晰觀察浸漬過程
次性耗材確保操作人員的安性，并減少清潔作量。
容易操作的控制面板 
DP-290真空冷鑲嵌機，通過觸摸來操作。壓力表顯示當前壓力
外形結構尺寸：500 x350x350mm
電源電壓     單項交流 220V/50Hz  
限真空：   -0.098MPa 

 注：頁面價格只是配件價格或產(chǎn)品庫存數(shù)量，并非產(chǎn)品價格  具體價格面議  如給您帶來不便請諒解