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射頻磁控濺射鍍膜裝置/磁控濺射鍍膜裝置

產品簡介

掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理；

2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍；

3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。

產品型號：DP-HRM-1

更新時間：2016-09-27

廠商性質：生產廠家

訪問量：1496

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產品分類

科研教學類

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射頻磁控濺射鍍膜裝置/磁控濺射鍍膜裝置型號；DP-HRM-1

可開設的實驗

1、掌握射頻磁控濺射法制膜的基本原理；

2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍；

3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。

主要參數

1、濺射鍍膜室：由不銹鋼底與玻璃鐘罩組成；有效尺寸：Φ220×H230mm³；

2、濺射鍍膜室本底真空：≤1Pa；濺射腔限真空：6×10^-1Pa；

3、濺射靶：Φ50mm，濺射靶臺和濺射靶可調距離：20～60mm；

4、基片加熱溫度可控范圍：室溫～300℃；

5、射頻源率：500W，13.56MHz；

6、氣路系統(tǒng)：由兩路轉子流量計控制（可選配質量流量計）；

7、真空系統(tǒng)：2XZ-4型旋片真空泵，抽氣速率：4L/S，單相220V交流電源供電；

8、對過流過壓、斷路等異常情況行報警，并執(zhí)行相應保護措施；

9、供電電源：AC220V，50Hz，整機率2KW。

磁力攪拌器

商品名稱：大率磁力攪拌器磁力攪拌器大率攪拌器
商品型號：DP-99-1

大率磁力攪拌器磁力攪拌器大率攪拌器 型號：DP-99-1

、DP-99-1大率磁力攪拌器用途：
大率磁力攪拌器能在較廣的速度范圍內對液體溶液行穩(wěn)定的攪拌，特別適合小體積的樣品，是石油、化、藥衛(wèi)生、環(huán)保、生化實驗室、分析室、教育科研的具。

二、大率磁力攪拌器基本參數：

1.電源：220V 50HZ

2.加熱率：600W

3.作臺面積：300＊300（MM）

4.攪拌容量：100-10000（ML）
www.51298264.com

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2、了解磁控濺射鍍膜儀的操作過程及使用范圍；

3、磁控濺射法制備金屬膜、半導體膜、化合物膜、介質膜等薄膜。